De Doelstellingen van de het Titaniumbuis van ISO9001 133OD*125ID*2940 Halfgeleider

133OD*125ID*2940 het Doeltitanium Gr2 ASTM B861-06 van de titaniumbuis de Doel Materiële Vacuümdeklaag

Het titanium is een wijd gebruikt metaal, wegens zijn lichtgewicht, hogere sterkte dan aluminiumlegering, kan een hogere sterkte dan aluminium bij op hoge temperatuur handhaven en door de luchtvaartindustrie hoogst getaxeerd. De aanwezigheid van onzuiverheden in titanium beïnvloedt beduidend de fysieke, chemische, mechanische eigenschappen en de corrosieweerstand van titanium. In het bijzonder, kunnen sommige tussenliggende onzuiverheden het kristalrooster van titanium vervormen en diverse eigenschappen van titanium beïnvloeden. De aanwezigheid van onzuiverheden in titanium beïnvloedt zeer zijn mechanische eigenschappen, vooral kunnen de tussenliggende onzuiverheden (zuurstof, stikstof, koolstof) de sterkte van titanium zeer verbeteren en beduidend zijn plasticiteit verminderen. De goede mechanische eigenschappen van titanium als structureel materiaal worden bereikt door de aangewezen onzuiverheidsinhoud strikt te controleren en het legeren elementen toe te voegen.

Momenteel, hebben vele landen een verscheidenheid van geavanceerd materiaal met duikvermogen, onderzees, onderzees van het titaniumlaboratorium ontwikkeld om Marien onderzoek uit te voeren. Bovendien worden het titaniummateriaal en de apparaten wijd gebruikt in kustkrachtcentrales, zeeolieproductiemateriaal, zeewaterontzilting, Mariene chemische productie en zeecultuur. wegens de zwakke verwerpingsreactie van titaniummetaal met menselijk weefsel, wordt het wijd gebruikt in kunstmatige beenderen, kunstmatige verbindingen, kunsttanden en andere menselijke implants.

De technologische ontwikkelingstendens van doelmaterialen is nauw verwant aan de ontwikkelingstendens van filmtechnologie in de stroomafwaartse toepassingsindustrieën. De breedte van verbindt vermindert onderling. De wafeltjefabrikanten vereisen grote grootte, hoge zuiverheid, lage scheiding en fijne korrels voor het doel, dat het doel vereist om een betere microstructuur te hebben. De diameter van het kristaldeeltje en de uniformiteit van het doel zijn als belangrijkste factoren beschouwd die het depositotarief van de film beïnvloeden. De vlak paneelvertoning (FPD) heeft zeer de (CRT) kathodestraalbuis - gebaseerde van de computermonitor en TELEVISIE markt de laatste jaren, beïnvloed en ITO-ook doeltechnologie en de marktvraag gedreven. ITO-de doelstellingen komen vandaag in twee verscheidenheden.

Hoofdvoordelen
Sterkte van de lage dichtheids de hoge specificatie
De aanpassing van het douaneverzoek
Uitstekende corrosieweerstand
Goede hittebestendigheid
Uitstekende lage temperatuurprestaties
Goede thermische eigenschappen
Lage elastische modulus