Alle producten
Contactpersoon : Hang Ning
Telefoonnummer : +86 15009270259

ASTM B861-06 een Elektronisch Doel van de Titaniumbuis

  • ASTM B861-06 A Electronic Titanium Tube Target
  • ASTM B861-06 A Electronic Titanium Tube Target
  • ASTM B861-06 A Electronic Titanium Tube Target
  • ASTM B861-06 A Electronic Titanium Tube Target
Plaats van herkomst Baoji, Shaanxi, China
Merknaam Feiteng
Certificering GB/T19001-2016 idt ISO9001:2015 GJB9001C-2017
Modelnummer Het doel van de titaniumbuis
Min. bestelaantal Om worden onderhandeld
Prijs To be negotiated
Verpakking Details Vacuümverpakking in houten geval
Levertijd Om worden onderhandeld
Betalingscondities T/T
Levering vermogen Om worden onderhandeld
Productdetails
Vorm Buis Toepassing Elektronische halfgeleider, displayer, enz.
Verpakking Vacuümverpakking in houten geval Plaats van oorsprong Baoji, Shaanxi, China
Rang Gr2 Certificering GB/T19001-2016 idt ISO9001:2015 GJB9001C-2017
Kleur Glans met grijze of donkere grijze metaalglans Norm ASTM B861-06 a
Hoog licht

Elektronisch Titanium ITO Tube Target

,

ASTM B861-06 ITO Tube Target

,

2940mm het Doel van de Titaniumbuis
Laat een bericht achter
Productomschrijving

133OD*125ID*2940L omvat van het de Buisdoel van het Flenstitanium het Titanium Gr2 ASTM B861-06 de Doel Materiële Vacuümdeklaag

Naam Het doel van de titaniumbuis
Norm

ASTM B861-06 a

Vervoerpakket

Vacuümverpakking in houten geval

Oorsprong

Baoji, Shaanxi, China

De haven van levert

Xi'anhaven, de haven van Peking, de haven van Shanghai, Guangzhou-haven, Shenzhen-haven
Grootte φ133*φ125*2940 (omvat flens)

 

De ontwikkelingstendens van doel materiële technologie is nauw verwant aan de ontwikkelingstendens van dunne filmtechnologie in verwerkende bedrijven. Met de technologische verbetering van de toegepaste industrieën in dunne filmproducten of componenten, zou de doeltechnologie ook moeten worden veranderd. In alle toepassingsindustrieën, vereist de halfgeleiderindustrie de strengste kwaliteitseisen ten aanzien van doel sputterende films. Nu wafeltje is het van het 12 duim (300) silicium vervaardigd, en de breedte van interconnect vermindert. De fabrikanten van het siliciumwafeltje vereisen grote grootte, hoge zuiverheid, lage scheiding en fijne korrel voor het doel, dat vereist dat het doelmateriaal betere microstructuur heeft. De diameter en de uniformiteit van kristaldeeltjes zijn als belangrijkste factoren beschouwd die het depositotarief films beïnvloeden. De vlak die paneelvertoning (FPD) is in de markt voor computermonitors geweest en Televisies door (CRT) worden overheerst kathodestraalbuizen in de loop van de jaren. Het zal ook de technologie en marktvraag van ITO-doelstellingen drijven. Tegenwoordig, zijn er twee soorten iTOdoelstellingen. Men is het sinteren van nano indiumoxyde en het poeder van het tinoxyde, andere is de legeringsdoel van het indiumtin. De dunne films van ITO kunnen worden geproduceerd door reactieve te sputteren van gelijkstroom, maar de doeloppervlakte zal het het sputteren tarief oxyderen en beïnvloeden, en het is niet gemakkelijk om groot gouden doel te verkrijgen. In termen van opslagtechnologie, vereisen de ontwikkeling van high-density en de grote capaciteitsharde schijf een hoop van het reuzemateriaal van de magneto-weerstandfilm. Wordt de CoF~Cu multilayer samengestelde film wijd gebruikt in reuzemagneto-weerstand tegenwoordig filmt dun structuren.

 

Hoofdvoordelen
Sterkte van de lage dichtheids de hoge specificatie
De aanpassing van het douaneverzoek
Uitstekende corrosieweerstand
Goede hittebestendigheid
Uitstekende lage temperatuurprestaties
Goede thermische eigenschappen
Lage elastische modulus

 

 

Markeringen:

GBT19001 buisdoelstellingen

125mm Vacuümdeklaagdoel

ASTM B861-06 ITO Tube Target

Geadviseerde Producten