Het anticorrosieve Doel van de het Titaniumbuis van ASTM B861 Roterende

Het het Doeltitanium Gr2 133OD*125ID*2940L van de titaniumbuis omvat Flens ASTM B861-06 een Titanium Roterend Doel

De eigenschappen van titanium zijn nauw verwant aan temperatuur, de morfologie en zuiverheid. Het dichte titanium is vrij stabiel van aard, maar het poedertitanium kan zelfontbranding in lucht veroorzaken. De aanwezigheid van onzuiverheden in titanium beïnvloedt beduidend de fysieke, chemische, mechanische eigenschappen en de corrosieweerstand van titanium. In het bijzonder, kunnen sommige tussenliggende onzuiverheden het kristalrooster van titanium vervormen en diverse eigenschappen van titanium beïnvloeden. Bij kamertemperatuur, is de chemische activiteit van titanium zeer klein en kan met een paar substanties zoals fluorwaterstofzuur reageren, maar wanneer de temperatuurverhogingen, de activiteit van titanium snel, vooral bij op hoge temperatuur stijgt, kan het titanium hevig met vele substanties reageren. Het uitsmeltingsproces van titanium wordt over het algemeen uitgevoerd bij een bovengenoemde 800℃ op hoge temperatuur, zodat moet het in een vacuüm of onder de bescherming van een inerte atmosfeer worden geopereerd.

Vraag naar high-density, harde aandrijving met hoge capaciteit en hoog - blijft de dichtheids rewritable optische schijven stijgen, leidend tot veranderingen in de vraag naar doelproducten in de toepassingsindustrie. Daarna, zullen wij de belangrijkste toepassingsgebieden van doelstellingen en de ontwikkelingstendens van doelstellingen in deze gebieden introduceren.
De vacuümdeklaag is een methode om metaal of niet-metalen materialen onder hoog vacuüm te verwarmen om op de oppervlakte van geplateerde delen (metaal, halfgeleider, of isolatie) te verdampen en te condenseren. De vacuümdeklaag is een belangrijk aspect op het gebied van vacuümtoepassing. Het is een nieuw die proces van filmvoorbereiding op vacuümtechnologie wordt gebaseerd, gebruikend fysieke of chemische methodes, en absorberend een reeks nieuwe technologieën zoals elektronenstraal, moleculaire straal, ionenstraal, plasmastraal, rf en magnetron, om wetenschappelijk onderzoek en praktische productie te verstrekken. Eenvoudig worden het spreken, de methode om metaal, legering of samenstelling in vacuüm te deponeren of te deponeren gemaakt op het met een laag bedekte voorwerp (substraat, substraat, of substraat), dat vacuümdeklaag wordt genoemd.

Hoofdvoordelen

1. Lage Dichtheid en Hoge Specificatiesterkte
2. De aanpassing van het klantenverzoek
3. Uitstekende Corrosieweerstand
4. Goede Weerstand tegen Effect van Hitte
5. Uitstekend Lager aan Cryogenics Bezit
6. Goede Thermische Eigenschappen
7. Lage Modulus van Elasticiteit